Ежемесячный научно-технический и производственный журнал

ISSN 0131-9582

Выбор оптимального лазерного источника для управляемого термораскалывания оксидных стекол

Информация о материале
Просмотров: 44972
Авторы: Сысоев В. К., Булкин Ю. Н., Вятлев П. А., Захарченко А. В.
  • УДК 666.053.2:621.373.826
  • Тип статьи: Наука - стекольному производству
  • Сквозной номер выпуска: 954
  • Страницы статьи: -
  • Поделиться:

Рубрика: Наука - стекольному производству

Проведен анализ применения лазеров среднего ИК-диапазона (3 - 7 мкм) для управляемого лазерного термораскалывания оксидных стекол. Показано значительное улучшение качества данной технологии при применении СО-лазеров (5,1 - 6,2 мкм). Ил. 4, библиогр.: 8 назв.
NULL
NULL

Статью можно приобрести
в электронном виде!

PDF формат

Нет в продаже

УДК 666.053.2:621.373.826
Тип статьи: Наука - стекольному производству
Оформить заявку

Ключевые слова

NULL

Для цитирования статьи

Сысоев В. К., Булкин Ю. Н., Вятлев П. А., Захарченко А. В. Выбор оптимального лазерного источника для управляемого термораскалывания оксидных стекол // Стекло и керамика. 2007. Т. 80, № 6. С. -. УДК 666.053.2:621.373.826
Баннер снизу

Главный редактор

Соколова Людмила Владимировна