-
Информация о материале
-
Просмотров: 56973
-
-
УДК 546.284:621.9.04:533.9
-
Тип статьи:
Покрытия. Эмали.
-
Сквозной номер выпуска:
914
-
Страницы статьи:
-
-
Поделиться:
Проведено моделирование высокотемпературных процессов, протекающих в оксидно-силикатных системах при воздействии плазмы. Исследования выполнены с помощью плазмотронов, используемых в практике аналитической химии при осуществлении атомно-эмиссионного анализа. Выбор этих источников обусловлен более простой методологией изучения взаимодействия плазмы с поверхностью твердого материала. Для уточнения выявленных высокотемпературных механизмов проведено термодинамическое моделирование с помощью программного комплекса "Астра". Табл. 2, ил. 5, библиогр.: 4 назв.
NULL
NULL
Статью можно приобрести
в электронном виде!
PDF формат
Нет в продаже
УДК 546.284:621.9.04:533.9
Тип статьи:
Покрытия. Эмали.
Оформить заявку
Ключевые слова
Для цитирования статьи
Отмахов В. И., Верещагин В. И., Мокроусов Г. М., Абакумова Е. П. Моделирование процессов, протекающих в оксидно-силикатных системах при воздействии плазмы, с целью улучшения качества покрытий // Стекло и керамика. 2004. Т. 77, № 2. С. -. УДК 546.284:621.9.04:533.9