Формирование рельефа поверхности деталей из оптической керамики посредством лазерного пиролиза кремнийорганики [11-16]

Е. В. ДОРОФЕЕВА, П. Ю. ЛОБАНОВ, канд. физ.-мат. наук И. С. МАНУЙЛОВИЧ, М. Н. МЕШКОВ, канд. физ.-мат. наук О. Е. СИДОРЮК (e-mail: Адрес электронной почты защищен от спам-ботов. Для просмотра адреса в вашем браузере должен быть включен Javascript.); АО "Научно-исследовательский институт "Полюс" им. М. Ф. Стельмаха" (Россия, г. Москва)

Каширин В. И. Основы формообразования оптических поверхностей: курс лекций. Екатеринбург: ГОУ ВПО УГТУ ? УПИ, 2006. 254 с. Zeuner M., Kiontke S. Ion Beam Figuring Technology in Optics Manufacturing. An established alternative for commercial applications // Optik & Photonik. 2012. V. 7. N 2. P. 56 ? 58. Ghigo M., Canestrari R., Spiga D., Novi A. Correction of high spatial frequency errors on optical surfaces by means of Ion Beam Figuring // Proc. of SPIE. 2007. V. 6671. P. 667114-6. Castelli M., Jourdain R., Morantz P., Shore P. Reactive Atom Plasma for Rapid Figure Correction of Optical Surfaces // Key Engineering Materials. 2012.V. 496. P. 182 ? 187. Jin H. L., Wang B., Zhang F. H. Effect on surface roughness of zerodur material in atmospheric pressure plasma jet processing // Proc. of SPIE. 2010. V. 7655. P. 76552X1-7. Kurdock J. R., Austin R. R. Correction of optical elements by the addition of evaporated films // Phys. Thin Films. 1978. N 10. P. 261 ? 308. Lee Ch.-Ch., Wan D.-Sh., Jaing Ch.-Ch., Chu Ch.-W. Making aspherical mirrors by thin-film deposition // Applied Optics. 1993. V. 32. N 28. P. 5535 ? 5540. Потелов В. В., Сеник Б. Н. Асферизация высокоточных оптических элементов методом вакуумного напыления // Оптический журнал. 2004. Т. 71. ? 12. С. 14 ? 19. Алеев Е. Р., Гармаш В. М., Касьянова Л. В. и др. Нанесение просветляющих покрытий лазерным пиролизом // Оптический журнал.1993. ? 2. C. 55 ? 57. Самуйлов А. В., Румянцев В. В., Молев В. И., Аннушкин С. И. Физико-химические свойства оптического ситалла СО 115М (АстроситаллR) // Контенант. 2002. ? 4. С. 24 ? 31. Desu S. B. Decomposition Chemistry of tetraethoxysilane // J. Am. Ceram. Soc. 1989. V. 72. N 9. P. 1615-21. Ju?rez H., Pacio M., D?az T. et al. Low temperature deposition: properties of SiO2 films from TEOS and ozone by APCVD system // J. Phys.: Conf. Ser. 2009. V. 167. N 1. 012020. P. 1 ? 6. Ju?rez H., D?az T., Pacio M. et al. Optical and electrical characterization of SiO2 films obtained by atmospheric pressure chemical vapor deposition // Phys. Stat. Sol. (c). 2007. N 4. P. 1481 ? 1484. Kim J., Jung S., Jang K. et al. SiO2 Films Deposited by APCVD with a TEOS/Ozone Mixture and Its Application to the Gate Dielectric of TFTs // Journal of The Electrochemical Society. 2010. V. 157. N 2. P. H182 ? H185. Rathbone B. Raspberry PI Stepper Motor // Constructors Manual. Rotterdam, 2013. P. 1 ? 16. Greivenkamp J. E., Bruning J. H. Phase shifting interferometry in Optical Shop Testing. 2nd ed. / ed. D. Malacara. New York: Wiley, 1992. 420 p. Kim E. J., Gill W. N. Analytical model for chemical vapor deposition of SiO2 films using tetraethoxysilane and ozone // Journal of Crystal Growth. 1994. V. 140. P. 315 ? 326.