Предложены различные методы защиты поверхности кремниевых подложек для изготовления кремниевых транзисторов. Приведены результаты проведения термических операций с техно-логическими режимами получения легкоплавкого стеклообразного слоя в целях защиты поверхности подложек p-n-переходов от различных внешних воздействий
Курносов А. И. Материалы для полупроводниковых приборов и интегральных микросхем. М.: Высш. шк., 1980. 327 с.
Пичугин И. Г., Таиров Ю. М. Технология полупроводниковых приборов. М.: Высш. шк., 1984. 287 с.
Курносов А. И., Юдин В. В. Технология производства полупроводниковых приборов и интегральных схем. М.: Высш. шк., 1986. 367 с.
Пат. 2008129513/28 РФ. МПК H01L 21/3105. Метод защиты поверхности кристаллов р-n-переходов на основе легкоплавкого стекла / Т. А. Исмаилов, Б. А. Шангереева, А. Р. Шахмаева; ? 2370852; заявл. 17.07.08; опубл. 20.10.09 // Бюл. 2009. ? 29. 3 с.
Пат. 2013100522/28 РФ. МПК H01L 21/316. Метод защиты поверхности кристаллов р-n-переходов на основе окиси ванадия / Т. А. Исмаилов, Б. А. Шангереева, Ю. П. Шангереев, А. И. Муртазалиев; ? 2534438; заявл. 20.07.14; опубл. 27.11.14 // Бюл. 2014. ? 33. 4 с.
Статью можно приобрести
в электронном виде!
PDF формат
700 руб
УДК 666.112.7:621.315.615
Тип статьи:
Покрытия
Оформить заявку